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打破“双工作台”拿下光刻机最高难度技能对我国芯意味着什么

浏览 时间 2024-01-07 作者 华体app网页版

  对我国芯片来讲现在最高的一个难度,便是体现在了光刻机的身上,作为芯片出产的最中心设备之一,光刻机技能一向都被西方国家掌握着,而最先进的光刻技能则是在荷兰的ASML公司。

  EUV极紫光光刻机光学体系杂乱,但是说是打破光刻机的重中之重,上海的微电子SMEE研制的光刻机,运用的镜片高达数万美元一枚,除了镜片的要求之外,还需要的便是双工作台。

  在ASMLTwinscan双工件台体系,也便是测光台与曝光台两个工件台相对独立,一个为晶圆做曝光的一起,另一个工件台则是能够为晶圆做后续的预备,如此循环交互之下大大地提高了光刻机的产能,正是由于这一项双工作台的技能,让荷兰的ASML公司成为了,世界上顶尖的芯片制作公司。

  作为他们的独门绝技,没想到有一天居然会被我国企业打破,华卓精科的创始人朱煜从ASML宣告双工作台的时分,就渐渐的开端着手研制这一项技能,一度因没有经费和技能而停滞,直到成立了华卓精科之后才开端真实打破,现在这一项技能已正式的打破了

  ASML的中心科技现已被正式打破,我国芯的诞生将会加速许多,你们对此事怎么看?欢迎谈论区留言重视!

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